产品目录

PRODUCT CENTER

离子研磨装置IM4000

发布时间:2020-01-06 16:43:30浏览次数:
日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器!

日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )的混合模式带有两种研磨配置:
断面加工:将样品断面研磨光滑,便于表面以下结构高分辨成像。
平面研磨:将样品表面均匀研磨5平方毫米,从不同角度有选择地研磨,以便突出样品的表面特性。

日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )的高通量能提高加工效率:与之前的E-3500型相比,采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间。(最大加工率:硅元素为300微米/小时--加工时间减少了66%。

日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )的可拆卸样品台装置:为便于样品设置和定义研磨边缘,可将样品台装置拆卸。

 
特点
混合模式:两种研磨配置
断面加工:将样品断面研磨光滑,便于表面高分辨观察
平面研磨:不同角度有选择地,大面积,均匀地研磨5 mm的平面,以突显样品的表面特性

高效:提高加工效率,与之前的E-3500型相比,采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间(最大加工速度:硅材质为300 μm/h - 加工时间减少了66%)
可拆卸式样品台:为便于样品设置和边缘研磨,样品台设计为可拆卸型

规格
项目 描述
断面加工台 平面研磨台
气源 氩气(Ar)
加速电压 0-6Kv
最大研磨速率﹡¹﹡²(硅材质) 约300μm/h﹡¹﹡²

约20μm/h﹡³(点)

约2μm/h﹡⁴(面)

最大样品尺寸 20(W)×12(D)×7(H)mm Φ50×25(H)mm
样品移动范围 X±7mm,Y0-+3mm X0-+5mm
旋转角度 - 1r/m,25r/m
摆动角度 ±15°,±30°,±40° ±60°,±90°
倾斜 - 0-90°
气体流量控制系统 流量调节器
排气系统 涡轮分子泵(33L/S)+机械泵(50Hz时,135L/min,60Hz时,162L/min)
仪器外观尺寸 616(W)×705(D)×312(H)mm
仪器重量 主机48kg+机械泵28Kg
可选附件 光学显微镜(用于观测研磨中的样品)

﹡¹:此研磨速率是对研磨板边缘处的硅材质的材料研磨至100μm粒度时所获得的最大深度值

﹡²:此研磨速率是对硅材质的材料进行研磨两小时后获得的平均值

﹡³:照射角度60°偏心值4mm

﹡⁴:照射角度0°偏心值0mm


注:该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

Copyright © 2018-2022 柜谷科技发展(上海)有限公司 版权所有 地址:上海市浦东新区曹路镇金海路2588号B217室 备案号:沪ICP备19046444号-1